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佳能”奈米壓印曝光機” 克服2奈米難關 ASML再無法壟斷？專家：美國可能要求他 【#寰宇全視界】20241006-P4 何戎 林郁方 介文汲 張競

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ava
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主持人:何戎

前立委 林郁方

前大使 資深外交官 介文汲

中華戰略學會 資深研究員 張 競

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日本半導體產業突破 佳能推出奈米壓印曝光機!
佳能加入光刻機賽道 打破艾司摩爾壟斷?
佳能FPA-1200NZ2C光刻機 會為業界帶來什麼衝擊?
佳能曝光機可生產2奈米晶片 將邁入先進製程?
晶片法案落地 美國商務部已撥款超過350億美元
520億補貼已發放一半 美國晶片產業打了強心針?
大量經費補貼到位 美國在地晶片生產將起飛?
英特爾帶頭分補貼 如何解讀美國晶片業發展?
三星為量產2奈米製程晶片 正加緊建立產線!
三星明宣示年量產2奈米製程 真能趕上台積電?
三星一頭栽進先進製程 犯了跟英特爾一樣錯誤?

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